| 摘要 |
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Bestimmen zumindest eines unbekannten Laserstrahlparameters eines Laserstrahls, der zum Korrigieren von Fehlern eines transparenten Materials eingesetzt wird, aufweisend das Induzieren einer ersten bleibenden Modifikation in dem Material durch eine Wechselwirkung mit dem Laserstrahl, der einen ersten Satz von Laserstrahlparametern aufweist, das Messen der induzierten ersten bleibenden Modifikation des Materials, das Berechnen einer zweiten bleibenden Modifikation in dem Material unter Verwendung eines Modells, das bleibende Modifikationen in dem Material beschreibt mit einem zweiten Satz von Laserstrahlparametern, wobei der erste Satz von Laserstrahlparametern den zweiten Satz von Laserstrahlparametern und den zumindest einen unbekannten Laserstrahlparameter umfasst, das Aufstellen eines Zielfunktionals, das die erste bleibende Modifikation und die zweite bleibende Modifikation umfasst und das Bestimmen des zumindest einen unbekannten Laserstrahlparameters durch Minimieren des Zielfunktionals. |
