具有改进的基板相容性的无氨碱性微电子清洗组合物

摘要

本发明涉及具有改进的基板相容性的无氨碱性微电子清洗组合物。用于清洗微电子基板的无氨清洗组合物，更具体地，此组合物清洗剂对以敏感多孔、低-κ和高-κ电介质以及敷铜为特征的微电子基板一起使用、并对基板具有改进相容性。用于剥离光致抗蚀剂、清除等离子生成的有机化合物、金属有机化合物和无机化合物的残余物、清除平坦化工艺中的残余物的清洗组合物。该清洗组合物含有一种或多种含有非亲核的、带正电的反离子的不产生氨的强碱和一种或多种位阻酰胺溶剂。

主权项

一种用于清洗微电子基板中残余物的清洗组合物，该基材在基板上具有(1)为多孔电介质、低‑κ电介质或高‑κ电介质的电介质，和(2)敷铜，所述清洗组合物是无硅酸盐的清洗组合物且包括：0.05‑30％重量的一种或多种含有非亲核的、带正电的反离子的不产生氨的强碱；5‑99.95％重量的一种或多种位阻酰胺溶剂；0‑95％重量的水或其它有机共溶剂；0‑40％重量的位阻胺或链烷醇胺；0‑40％重量的有机或无机酸；0‑40％重量的其它金属腐蚀抑制剂化合物；0‑5％重量的表面活性剂；0‑5％重量的金属螯合剂；和0‑10％重量的氟化物。