发明名称 在电极基材料表面原位生长纳米氧化锌的方法
摘要 本发明提供的是一种在铜基片表面原位生长纳米氧化锌的方法。先把铜基片表面用砂纸打磨合金,直至其表面光亮、平整,将打磨好的铜基片表面用蒸馏水冲洗后,放入丙酮中,超声处理15-20分钟后取出并用蒸馏水冲洗,然后进行碱洗除油、蒸馏水冲洗、晾干备用;采用共溅射在铜基片上镀一层Cu-Zn合金,然后把预处理过的铜基片放入去离子水中,在90℃温度下反应18小时后取出。本发明制备氧化锌的方法过程中不引入有机试剂,有利于在生物体系中的应用。
申请公布号 CN102398918A 申请公布日期 2012.04.04
申请号 CN201110364702.4 申请日期 2011.11.17
申请人 东南大学 发明人 徐春祥;杨池;王明亮
分类号 C01G9/02(2006.01)I 主分类号 C01G9/02(2006.01)I
代理机构 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人 柏尚春
主权项 一种在电极基材料表面原位生长纳米氧化锌的方法,其特征是该方法具体如下:  a、电极基表面的预处理先把电极基片依次用蒸馏水冲洗后,放入丙酮中,超声处理10~15分钟后取出并用蒸馏水冲洗,然后进行碱洗除油,取出并用蒸馏水冲洗、氮气气氛干燥备用;b、电极基表面ZnO的制备将清洗干净的电极基用Zn靶和Cu靶共溅射的方法镀上一层Zn‑Cu合金;所述的Zn靶和Cu靶,其直径为Ф60mm,厚度为5mm;所述的溅射,其方式采用射频磁控溅射,Zn靶的射频磁控溅射功率为40W;Cu靶的射频磁控溅射功率为80~140W;所述溅射靶即Zn靶和Cu靶与基底底座倾斜成60°,基底与各靶对称分布且距离都为65cm;所述溅射靶即Zn靶和Cu靶,在溅射前经过5分钟的预溅射清洗;所述基底,其底座在溅射过程中旋转速度为10rpm;溅射基底温度为20℃~400℃,本底真空度10‑4 Pa,氮气流量范围为0sccm~50sccm,优化氮气流量为10sccm,通过控制氩气使工作气压保持在0.3Pa;溅射完自然冷却后取出,放入加有50 ~80ml去离子水的水热反应釜,在 85~95℃反应3~6h,取出电极基,用去离子水冲洗,即得到长满纳米ZnO 的电极基。
地址 210096 江苏省南京市四牌楼2号