光刻装置和器件制造方法

摘要

例如为了在不同基底的曝光之间方便地移动基底，使用致动的封闭板提供基底、基底台或上述两者作为限制液体的光刻装置中的空间边界的一部分，而不会例如破坏限制液体的密封。

主权项

一种光刻投影装置，包括：配置成保持基底的基底台；配置成把带图案的辐射光束投影到基底上的投影系统；液体限制结构，所述液体限制结构被配置成把液体限制在空间中，所述空间为投影系统与基底、基底台或上述两者之间的空间，基底、基底台或上述两者配置成形成所述空间的边界的一部分；以及封闭板，该封闭板配置成当基本上未扰动液体、液体限制结构或上述两者而移动时，替代基底、基底台或上述两者构成所述空间的边界的一部分，其中，所述封闭板被构造并设置使得所述封闭板的主动补偿器测量作用在所述封闭板上的力并且前馈送给基底台的控制系统，从而，作用在致动的封闭板上的所述力将被补偿并且不影响所述基底台。