| 发明名称 | 静电吸盘 | ||
| 摘要 | 本发明涉及静电吸盘。本发明的静电吸盘在具备冷却装置和配置在上述冷却装置上且具有工件载置面的静电吸盘主体的半导体制造装置中使用，其特征在于：设有以贯穿上述冷却装置且从上述冷却装置的一个主面到达另一主面表面的方式延伸的气体供给孔，在上述气体供给孔的开口部设有直径比上述气体供给孔大的主沉孔部；在上述主沉孔部，埋入由设有与上述气体供给孔连通的气体流路的绝缘部件所构成的防电弧部件；在上述工件载置面，设有通过上述气体流路而与上述气体供给孔连通的细孔。 | ||
| 申请公布号 | CN101533798B | 申请公布日期 | 2012.04.04 |
| 申请号 | CN200910127342.9 | 申请日期 | 2009.03.10 |
| 申请人 | 日本碍子株式会社 | 发明人 | 后藤义信 |
| 分类号 | H01L21/687(2006.01)I;H01L23/60(2006.01)I;H01L23/34(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/687(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 张敬强 |
| 主权项 | 一种静电吸盘，在具备冷却装置和配置在上述冷却装置上且具有工件载置面的静电吸盘主体的半导体制造装置中使用，其特征在于：设有以贯穿上述冷却装置且从上述冷却装置的一个主面到达另一主面表面的方式延伸的气体供给孔，在上述气体供给孔的开口部设有直径比上述气体供给孔大的主沉孔部；在上述主沉孔部，埋入由设有与上述气体供给孔连通的气体流路的绝缘部件所构成的防电弧部件；在上述工件载置面，设有通过上述气体流路而与上述气体供给孔连通的细孔。 | ||
| 地址 | 日本爱知县 | ||