发明名称 包括旋转污染物陷阱的设备和方法
摘要 本发明涉及一种包括可旋转污染物陷阱的设备和方法,其配置在辐射束的路径上以捕获从构造用于产生所述辐射束的辐射源发射的污染物。污染物陷阱设备包括:具有多个限定通道的通道形成元件的转子,所述通道形成元件配置成基本上平行于所述辐射束的传播方向,所述转子包括可充电材料并且配置成由于所述辐射源的运行而会被充电;和构造成相对于转子承载结构可旋转地保持所述转子的轴承,其中所述设备构造成(i)控制所述转子的放电或改变所述转子的放电方向,或(ii)抑制所述转子的放电,或(iii)包括(i)和(ii)两者。
申请公布号 CN102402136A 申请公布日期 2012.04.04
申请号 CN201110433243.0 申请日期 2007.09.17
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 约翰内斯·克里斯蒂安·里昂纳多斯·弗兰肯;瓦蒂姆·耶乌金耶维奇·班尼恩;阿诺德·康纳立斯·瓦森克
分类号 G03F7/20(2006.01)I;F16C32/06(2006.01)I;F16C33/02(2006.01)I;B82Y10/00(2011.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 吴敬莲
主权项 一种方法,包括:使用转子捕获从辐射源发射的污染物,所述转子具有限定通道的多个通道形成元件,所述通道形成元件配置成基本上平行于从所述辐射源发射的辐射束的传播方向,所述转子包括可充电材料,所述可充电材料由于所述辐射源的运行而会被充电;和控制所述转子的放电或改变所述转子的放电方向,或抑制所述转子的放电,或上述两者。
地址 荷兰维德霍温