发明名称 电化学处理微特征工件的腔室、系统和方法
摘要 用于电化学处理微特征工件的腔室、系统和方法在此处被揭露。在一实施例,一种电化学沈积腔室,其包括一处理单元,该处理单元具有一第一流动系统,该第一流动系统被构形,以于将一第一处理流体的流动输送到一微特征工件。该腔室更包括一电极单元,其具有一电极和一第二流动系统,该第二流动系统被构形,以于将一第二处理流体的流动输送到至少靠近该电极。该腔体更包括一非多孔性阻隔件(nonporous barrier),该非多孔性阻隔件位于该处理单元和该电极单元之间,用来分离该第一和第二处理流体。该非多孔性阻隔件被构形,以让阳离子和阴离子经由该阻隔件流通于该第一和第二处理流体之间。
申请公布号 TWI361509 申请公布日期 2012.04.01
申请号 TW093116099 申请日期 2004.06.04
申请人 薛米屠尔公司 美国 发明人 凯尔M 汉森;约翰 寇基
分类号 H01M4/00 主分类号 H01M4/00
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 美国