发明名称 |
曝光机的平台装置 |
摘要 |
一种曝光机的平台装置,适于设置于一机台,平台装置包含一工作平台、一对位机构与一调整机构,工作平台设置于机台并且包括一上框台与一下框台,对位机构包括复数分别设置于上框台与下框台的定位凹穴与定位销组,当上框台盖合于下框台时,定位销组伸入定位凹穴内,调整机构设置于下框台,并且能受驱动带动放置于下框台上的待曝光基板相对于下框台位移,藉此调整待曝光基板相对于下框台的位置。 |
申请公布号 |
TWM426049 |
申请公布日期 |
2012.04.01 |
申请号 |
TW100214245 |
申请日期 |
2011.08.02 |
申请人 |
志圣工业股份有限公司 新北市林口区工二工业区工八路2之1号 |
发明人 |
张永裕;陈立扬 |
分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
|
代理人 |
高玉骏 台北市松山区南京东路3段248号7楼;杨祺雄 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
主权项 |
|
地址 |
新北市林口区工二工业区工八路2之1号 |