发明名称 基板处理装置及基板处理方法
摘要 本发明之课题;提供一种可防止氟化氢附着于处理箱内面等的基板处理装置。;本发明之解决手段;一种将基板收容于处理箱内加以处理的装置,其中具备对处理箱40内供给氟化氢气体的氟化氢气体供给通路61;处理箱40之内面的一部分或全部,系构成为由未施加表面氧化处理的铝或铝合金所形成。处理箱40,系具备闭塞处理箱本体51之上部开口的盖体52;最少盖体52之内面,系由未施加氧化铝处理的铝或铝合金所形成。
申请公布号 TWI361460 申请公布日期 2012.04.01
申请号 TW095148576 申请日期 2006.12.22
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 户泽茂树;村木雄介;饭野正;林大辅
分类号 H01L21/306;H01L21/00 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本