Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie sowie Verfahren zur mikrolithographischen Belichtung

摘要

Eine Projektionsbelichtungsanlage (10) für die Mikrolithographie zum Belichten eines Substrats (20) umfasst ein Projektionsobjektiv (18) sowie eine optische Messvorrichtung (40) zum Bestimmen einer Oberflächentopographie des Substrats (20) vor dessen Belichtung. Die Messvorrichtung (40) weist einen Messstrahlengang auf, welche außerhalb des Projektionsobjektivs (18) verläuft, ist dazu konfiguriert, Topographiemesswerte zeitgleich an mehreren Stellen der Substratoberfläche (21) zu ermitteln.