发明名称 Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements
摘要 Eine oder mehrere Ausführungsformen betreffen ein Verfahren zum Ausbilden eines Speicherbauelements, wobei das Speicherbauelement ein Steuergate (252), eine Ladungsspeicherungsstruktur und ein Auswahlgate (280A) aufweist, wobei das Verfahren Folgendes aufweist: Ausbilden eines Gateturms (262), wobei der Gateturm (262) das Steuergate (252) über der Ladungsspeicherungsstruktur enthält; Ausbilden eines seitlich von dem Gateturm (262) beabstandeten Dummyturms (264) und Ausbilden eines Auswahlgates (280A) zwischen dem Gateturm (262) und dem Dummyturm (264).
申请公布号 DE102011053110(A1) 申请公布日期 2012.03.29
申请号 DE201110053110 申请日期 2011.08.30
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 POWER, JOHN
分类号 H01L21/8247;H01L27/115 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人
主权项
地址