| 摘要 |
Abtast-Mustergenerator für mikrolithographisches Mehrstrahl-Schreiben von hochpräzisen Mustern auf einem lichtempfindlichen Substrat (11), wobei das Abtast-Mustergenerator eine Lichtquelle (1) zum Erzeugen wenigstens zweier Lichtstrahlen, einen rechnergesteuerten Lichtmodulator (4), eine Ablenkeinheine Objektivlinse (10) zum Bündeln der wenigstens zwei von der Lichtquelle ausgesandten Lichtstrahlen aufweist, bevor diese auf das Substrat treffen, wobei zumindest die Objektivlinse auf einem Träger (22) angeordnet ist, der relativ zu dem Substrat (11) und der Lichtquelle (1) beweglich ist, wobei der Träger einen beweglichen ersten optischen Pfad relativ zu dem verbleibenden zweiten optischen Pfad definiert, darüber hinaus gekennzeichnet durch Mittel zum Verändern des zweiten optischen Pfades, um eine Telezentrizität für die Strahlen aufrechtzuerhalten, wenn diese während der Bewegung des Trägers und des beweglichen ersten optischen Pfades auf das lichtempfindliche Substrat auftreffen.
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