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Mit bekannten fotolithografischen Verfahren unter Verwendung von chemisch verstärkten Fotolacken können durch Variation der Belichtungsdosis einfache dreidimensionale Strukturen erzeugt werden. Erzeugte Fotosäure-Moleküle bzw. deren abgespaltenen Protonen erfahren eine diffuse Wanderung in der Fotolackschicht vor der Vernetzung. Mit dem erfindungsgemäßen fotolithografischen Verfahren können hochkomplexe dreidimensionale Strukturen, insbesondere auch konvexe, konkave, konisch geformte und ansteigende Profile, einfach und reproduzierbar in einer Fotolackschicht (01) realisiert werden, da die durch Belichtung erzeugten freien Ladungsträger (04) durch Anlegen zumindest eines elektrischen Feldes zu einer orientierten Wanderung entlang der Feldlinien angeregt werden (gerichtete Elektrodiffusion). Diese Anregung erfolgt vor der Vernetzung bevorzugt während der Belichtung der Fotolackschicht (01). Das angelegte elektrische Feld ist in Feldstärke und Polung (12) beliebig parametrierbar und kann bevorzugt einer in Intensität und Belichtungsfeld (11) parametrierbaren Belichtung überlagert werden. Es ergeben sich viele Anwendungsbereiche für hochkomplexe „echte” 3D-Strukturen, beispielsweise für die Halbleitertechnologie, Nanofluidik und Medizintechnik.
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