发明名称 | 抛光组合物 | ||
摘要 | 本发明涉及一种抛光组合物,它更适合用于磁盘基片的抛光。抛光组合物含有:研磨剂、微纹消除剂、氧化剂、抛光促进剂、以及水。微纹消除剂是一种还原剂,它含以下组中选出的至少一种:膦酸、亚膦酸、连二磷酸铵、硫酸铵、硫酸钠、对苯二酚、焦酚、异抗坏血酸、异抗坏血酸钠、L-抗坏血酸、蚁酸、蚁酸钠、蚁酸铵、草酸、草酸铵、碘酸铵以及五倍子酸。 | ||
申请公布号 | CN1576339B | 申请公布日期 | 2012.03.28 |
申请号 | CN200410062868.0 | 申请日期 | 2004.07.02 |
申请人 | 福吉米株式会社 | 发明人 | 神谷知秀;横道典孝;大胁寿树 |
分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
代理机构 | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人 | 徐申民;董红曼 |
主权项 | 一种抛光组合物,其特征在于,包含:不低于0.1%重量且不高于10%重量的二氧化硅、不低于0.05%重量且不高于1%重量的还原剂,所述还原剂含有选自膦酸、亚膦酸、连二磷酸铵、对苯二酚、焦酚、蚁酸、蚁酸钠、蚁酸铵以及五倍子酸中的至少一种、不低于0.5%重量且不高于10%重量的过氧化氢、不低于0.1%重量且不高于20%重量含有磷酸盐的抛光促进剂,所述磷酸盐选自于磷酸三铵、磷酸氢二铵、磷酸二氢铵、磷酸三钠、磷酸氢二钠、磷酸二氢钠、磷酸三钾、磷酸氢二钾以及磷酸二氢钾、以及水。 | ||
地址 | 日本爱知县 |