发明名称 异烟肼杂质的控制方法
摘要 本发明公开了一种异烟肼杂质的控制方法,通过控制4-氰基吡啶原料的色谱纯度≥99.8%,其中杂质INH-C的含量≤0.1%,杂质INH-D的含量≤0.1%,杂质INH-B的含量≤0.1%;水解反应步骤中,控制反应温度为95℃-105℃,反应时间为1.5小时-3小时;缩合反应步骤中,控制反应温度为90℃-97℃,反应时间为1.5小时-2.5小时;控制4-氰基吡啶与水合肼的摩尔比为:1∶2-4;得到高纯度、低杂质的异烟肼。该方法操作简单,易于控制,适于工业化操作。
申请公布号 CN102391178A 申请公布日期 2012.03.28
申请号 CN201110298501.9 申请日期 2011.09.30
申请人 浙江新赛科药业有限公司 发明人 郭拥政;吕士华;杨和军;张铁斌;徐虎
分类号 C07D213/86(2006.01)I 主分类号 C07D213/86(2006.01)I
代理机构 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人 胡红娟
主权项 1.一种异烟肼的制备方法,包括以下步骤:水解反应:<img file="FDA0000095958780000011.GIF" wi="1233" he="232" />缩合反应:<img file="FDA0000095958780000012.GIF" wi="1620" he="227" />其特征在于,4-氰基吡啶原料的色谱纯度≥99.8%,其中杂质INH-C的含量≤0.1%,杂质INH-D的含量≤0.1%,杂质INH-B的含量≤0.1%;水解反应步骤中,控制反应温度为95℃-105℃,反应时间为1.5小时-3小时;缩合反应步骤中,控制反应温度为90℃-97℃,反应时间为1.5小时-2.5小时;控制4-氰基吡啶与水合肼的摩尔比为:1∶2-4;其中,所述的INH-B、INH-C和INH-D的结构式分别如下:<img file="FDA0000095958780000013.GIF" wi="1061" he="355" />
地址 312369 浙江省绍兴市上虞市杭州湾上虞工业园区纬五路33号