| 发明名称 |
一种具有热均匀性的热处理方法 |
| 摘要 |
本发明公开了一种具有热均匀性的热处理方法，属于热处理技术领域，具体步骤是：(1)基板表面疏水处理；(2)光阻旋转涂布至半导体基板表面；(3)预先烘烤；(4)冷却至室温；(5)远紫外线辐射照射曝光；(6)曝光后烘烤；(7)冷却至室温；(8)显影；(9)烘烤；有益效果是温度均匀，可进行长时间运行。 |
| 申请公布号 |
CN102393601A |
申请公布日期 |
2012.03.28 |
| 申请号 |
CN201110355109.3 |
申请日期 |
2011.11.10 |
| 申请人 |
宋剑 |
发明人 |
宋剑 |
| 分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
一种具有热均匀性的热处理方法，借由热空气流动使加热过程均匀化，且调节排气的流量，控制排出该处理室内的气体流量，形成具有热均匀性的热处理装置，其特征在于所述的处理方法具体步骤是：(1)基板表面疏水处理；(2)光阻旋转涂布至半导体基板表面；(3)预先烘烤；(4)冷却至室温；(5)远紫外线辐射照射曝光；(6)曝光后烘烤；(7)冷却至室温；(8)显影；(9)烘烤。 |
| 地址 |
221000 江苏省徐州市铜山区第三工业园东风路24号 |
