| 发明名称 | 光源系统及其应用的投影系统 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种光源系统及其应用的投影系统。此光源系统包括激光光源，用于产生第一光线；基板，包括设置于第一光线的传播路径上的至少一个分区；以及无机透明材质的散光结构，设于基板的至少一个分区上，用于散射第一光线。此光源系统可应用于投影系统。本实用新型可均匀化光源的激发光。 | ||
| 申请公布号 | CN202177773U | 申请公布日期 | 2012.03.28 |
| 申请号 | CN201120313265.9 | 申请日期 | 2011.08.25 |
| 申请人 | 绎立锐光科技开发（深圳）有限公司 | 发明人 | 杨毅;樊晓军 |
| 分类号 | G03B21/20(2006.01)I;G02B27/18(2006.01)I;F21V5/08(2006.01)I;F21V7/22(2006.01)I | 主分类号 | G03B21/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人 | 欧阳启明 |
| 主权项 | 一种光源系统，其特征在于：所述光源系统包括：激光光源，用于产生第一光线；基板，包括设置于所述第一光线的传播路径上的至少一个分区；以及无机透明材质的散光结构，设于所述基板的所述至少一个分区上，用于散射第一光线。 | ||
| 地址 | 518057 广东省深圳市南山区科技园南十二路方大大厦三楼 | ||