用于EUV 波长范围的反射镜、包括这种反射镜的用于微光刻的投射物镜、以及包括这种投射物镜的用于微光刻的透射曝光设备

摘要

本发明涉及一种用于EUV波长范围的反射镜，所述反射镜包括施加在基底上的层布置，其中所述层布置包括多个层子系统(P”、P’”)，每个层子系统由多个单独层的至少一个周期(P2、P3)的周期序列构成，其中所述周期(P2、P3)包括由不同材料构成的两个单独层，用于高折射率层(H”、H’”)和低折射率层(L”、L’”)，并且在每个层子系统(P”、P’”)内具有恒定厚度(d2、d3)，所述恒定厚度(d2、d3)与相邻层子系统的周期的厚度偏离。所述反射镜的特征在于最远离所述基底的层子系统(P’”)的周期(P3)的数目(N3)大于第二远离所述基底的层子系统(P”)的周期(P2)的数目(N2)，并且/或者，最远离所述基底的层子系统(P”’)的高折射率层(H’”)的厚度与第二远离所述基底的层子系统(P”)的高折射率层(H”)的厚度偏离超过0.1nm。本发明还涉及包括这种反射镜的用于微光刻的投射物镜，并且还涉及包括这种投射物镜的投射曝光设备。

主权项

一种用于EUV波长范围的反射镜，所述反射镜包括施加在基底上的层布置，其中所述层布置包括多个层子系统(P”、P’”)，每个层子系统由多个单独层的至少一个周期(P2、P3)的周期序列构成，其中所述周期(P2、P3)包括高折射率层(H”、H’”)和低折射率层(L”、L’”)的两个单独层，所述高折射率层(H”、H’”)和低折射率层(L”、L’”)由不同材料构成，并且所述周期(P2、P3)在每个层子系统(P”、P’”)内具有恒定厚度(d2、d3)，所述恒定厚度(d2、d3)与相邻层子系统的周期的厚度偏离，其特征在于：对于一入射角区间，所述反射镜在13.5nm波长处具有大于35％的反射率以及小于或等于0.25、尤其是小于或等于0.23的PV值的反射率变化，所述入射角区间选自以下入射角区间组：从0°到30°、从17.8°到27.2°、从14.1°到25.7°、从8.7°到21.4°、以及从2.5°到7.3°。