溅射靶

摘要

本发明提供包含铝和一种或多种合金元素的溅射靶，该合金元素包括Ni、Co、Ti、V、Cr、Mn、Mo、Nb、Ta、W和稀土金属(REM)。向纯铝和铝合金靶中添加非常少量的合金元素通过影响靶的重结晶过程改善沉积的配线膜的均匀性。合金元素含量的范围为0.01-100ppm且优选为0.1-50ppm且更优选为0.1-10ppm重量，其足以防止纯铝和铝合金(例如30ppm Si合金)的动态重结晶。添加少量合金元素提高纯铝和铝合金薄膜的热稳定性和抗电迁移性，同时维持它们的低电阻率和良好的可蚀刻性。本发明还提供制造微合金化的铝和铝合金溅射靶的方法。

主权项

溅射靶，包括Al合金和由Ni组成的第二元素，所述Al具有至少99.999重量％的纯度，所述Al与Si合金化，所述Ni以0.2ppm‑10ppm的量存在，其中Si以30ppm的量存在。