发明名称 金属焊垫的制造方法以及相应的金属焊垫结构
摘要 本发明揭示了一种金属焊垫的制造方法以及相应的金属焊垫结构,在原有的集成电路层次上,新增一道金属层,从整体上增加欲打线的金属层厚度,有利于铜线打线,避免打穿现象的出现。而且,其使用原有焊垫掩膜即可完成,无需增加新的掩膜,也无需改变设计规则。以上结构包括:半导体基底,其上具有一最上层金属层;绝缘层,覆盖于所述最上层金属层之上;第一窗口,贯穿所述绝缘层,且该第一窗口内沉积有焊垫金属;钝化层,覆盖于所述绝缘层之上;第二窗口,贯穿于所述钝化层,与第一窗口相连通,且该第二窗口内沉积有焊垫金属。
申请公布号 CN102044457B 申请公布日期 2012.03.28
申请号 CN201010102325.2 申请日期 2010.01.28
申请人 中颖电子股份有限公司 发明人 葛晓欢;王秉杰
分类号 H01L21/60(2006.01)I;H01L23/485(2006.01)I 主分类号 H01L21/60(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 郑玮
主权项 一种金属焊垫结构,其特征是,包括:半导体基底,其上具有一最上层金属层;绝缘层,覆盖于所述最上层金属层之上;第一窗口,贯穿所述绝缘层,且该第一窗口内沉积有焊垫金属;钝化层,覆盖于所述绝缘层之上;第二窗口,贯穿于所述钝化层,与第一窗口相连通,且该第二窗口内沉积有焊垫金属。
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