发明名称 Diode und Verfahren zu ihrer Herstellung
摘要 Diode mit einem Halbleiterkörper (1), der eine Vorderseite (11) und eine der Vorderseite (11) in einer vertikalen Richtung (z) des Halbleiterkörpers (1) gegenüberliegende Rückseite (12) aufweist, in dem in der vertikalen Richtung (z) ausgehend von der Rückseite (12) hin zur Vorderseite (11) aufeinanderfolgend eine stark n-dotierte Zone (5), eine schwach n-dotierte Zone (4), eine schwach p-dotierte Zone (3) und eine stark p-dotierte Zone (2) angeordnet sind, wobei die schwach p-dotierte Zone (3) in der vertikalen Richtung (z) eine Dicke (d3) aufweist, die mindestens 25% und höchstens 50% der Dicke (d1) des Halbleiterkörpers (1) in vertikaler Richtung (z) beträgt, und wobei die schwach n-dotierte Zone (4) eine minimale Dicke (d4min) von wenigstens 400 μm aufweist.
申请公布号 DE102007001108(B4) 申请公布日期 2012.03.22
申请号 DE200710001108 申请日期 2007.01.04
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 SCHULZE, HANS-JOACHIM, DR.;NIEDERNOSTHEIDE, FRANZ-JOSEF, DR.;BARTHELMESS, REINER, DR.
分类号 H01L29/861;H01L21/329 主分类号 H01L29/861
代理机构 代理人
主权项
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