发明名称 Halbleiterdünnfilm, Herstellungsverfahren dafür, sowie den Halbleiterdünnfilm aufweisende Solarzelle
摘要 <p>Ein Halbleiterdünnfilm umfassend eine p-leitende Halbleiterverbindungsschicht (13), eine n-leitende Halbleiterverbindungsschicht (12) auf der p-leitenden Halbleiterverbindungsschicht (13), dadurch gekennzeichnet, dass eine n-leitende Halbleiterschicht (14) auf der n-leitenden Halbleiterverbindungsschicht (12) angeordnet ist, die n-leitende Halbleiterverbindungsschicht (12) mindestens je ein Element der Gruppen Ib, IIIb, VIb und II enthält und zwischen den Elementen der Gruppe Ib, Gruppe IIIb und Gruppe VIb in der n-leitenden Halbleiterverbindungsschicht (12) das Verhältnis X:Y:Z besteht bei 0.05≤X≤0.2; 0.25≤Y≤0.4; und 0.45≤Z≤0.65 und die p-leitende Halbleiterverbindungsschicht (13) mindestens ein Element der Gruppen Ib, IIIb und VIb umfasst.</p>
申请公布号 DE19912961(B4) 申请公布日期 2012.03.22
申请号 DE1999112961 申请日期 1999.03.23
申请人 PANASONIC CORPORATION 发明人 HASHIMOTO, YASUHIRO;NEGAMI, TAKAYUKI;HAYASHI, SHIGEO;WADA, TAKAHIRO
分类号 H01L31/0328;H01L29/26;H01L31/0264;H01L31/0392;H01L31/04;H01L31/042;H01L31/0749;H01L31/18 主分类号 H01L31/0328
代理机构 代理人
主权项
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