曝光光罩及薄膜图案层之制造方法

摘要

本发明涉及一种曝光光罩，其包括复数光罩单元，各光罩单元包括第一区域及包围该第一区域之第二区域。该第二区域在与第一区域之交界处具有至少一个向第一区域内部突出之突出区域，使该第二区域之一部分三边被第一区域包围。所述之曝光光罩，藉由该至少光罩单元第二区域之一部分三边被第一区域包围，而使该第二区域之该部分对应之光阻材料于显影过程得以被保留。本发明还提供一种使用该曝光光罩制造薄膜图案层之方法。