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发明名称
一种量测方法、检测装置及微影装置
摘要
将辐射投影至在一基板上之复数个目标上。藉由假定自不对称性可导出之覆盖误差跨越该基板平滑地变化,可减小所量测之目标的数目。此可导致较小面积之划道由该基板之每一层之目标予以使用。
申请公布号
TWI360640
申请公布日期
2012.03.21
申请号
TW097102228
申请日期
2008.01.21
申请人
ASML荷兰公司 荷兰
发明人
艾佛哈德斯 柯奈利斯 摩斯;毛瑞斯 凡 德 斯加
分类号
G01B11/00;G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G01B11/00
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
荷兰
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