以单一光罩多重浸入曝光产生微结构之制法

摘要

本发明系有关一种以单一光罩多重浸入曝光产生微结构之制法，其包括下列步骤：一预备步骤、二多重曝光步骤、三产生最终重叠区域步骤以及四完成步骤；将一基板、一光阻及一光罩置于复数个倾斜位置进行曝光，并配合工作液折射率与倾斜角度，可以多次曝光于光阻上重叠形成不同形状的几何结构；如此兼具可以单一光罩制作不同的微结构、制程简单且尺寸稳定、可缩短制程并降低制作成本、与应用范围广泛等优点及功效。