增强化学性之正型光阻材料及使用其之图案形成方法

摘要

本发明提供一种曝光前后之高硷溶解速度对比，具有高感度与高解像性，非常优越的曝光后之经时稳定性，特别适合于做为超大型集成化制造用之电子线微影制程中的精细图案形成材料、光罩图案形成材料之增强化学性正型光阻材料。;其特征为含有至少一种选自下述式(1d)、(1e)之藉由放射线或电子线的照射产生酸之化合物(1)，与以酸之作用使对硷显像液的溶解性改变之高分子聚合物，与硷性化合物。