发明名称 一种待室检测腔体
摘要 一种待室检测腔体主要包含有:入口管道,出口管道,流体处理设备腔体,待处理腔室,已处理腔室,安装孔,其特征在于:在流体处理设备待处理腔室的上开有水质检测系统安装孔,本实用新型由于在流体处理设备已处理腔室上有水质检测仪安装孔,方便了水质检测仪安装,当设备工作一段时间后,设备腔室内各种黏泥等杂质含量会不断增加,流量下降,流体处理效果变差等现象就会出现,这时就要对设备进行排污、反冲洗,甚至更换各种流体处理材料,而流体处理设备往往是闭式系统,进行这些工作的依据就来源于水质检测的数据,本实用新型由于提供了一种流体处理设备水质取样腔体,从而为正确取得这些数据创下了条件。
申请公布号 CN202170251U 申请公布日期 2012.03.21
申请号 CN201120163606.9 申请日期 2011.05.21
申请人 冯军 发明人 冯军;李永杰;陈仕玲
分类号 C02F1/00(2006.01)I;G01N33/18(2006.01)I 主分类号 C02F1/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种待室检测腔体主要包含有:入口管道,出口管道,流体处理设备腔体,待处理腔室,已处理腔室,安装孔,其特征在于:在流体处理设备待处理腔室开有水质检测系统安装孔。
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