发明名称 | 显影装置及具备该显影装置的图像形成装置 | ||
摘要 | 本发明提供一种显影装置及具备该显影装置的图像形成装置,所述显影装置包括:显影剂储存部,储存显影剂;搅拌构件,配置在所述显影剂储存部内,搅拌并输送所述显影剂;显影剂承载体,从所述显影剂储存部接受所述显影剂,并承载该显影剂;显影剂限制构件,限制所述显影剂承载体从所述显影剂储存部接受的所述显影剂的量;以及散热构件,设置在与所述显影剂接触的位置,能够散发所述显影剂保有的热量。所述散热构件的与所述显影剂接触的表面的算术平均表面粗糙度Ra1设定为:在调色剂的体积平均粒径的1/3以下。 | ||
申请公布号 | CN101566818B | 申请公布日期 | 2012.03.21 |
申请号 | CN200910131046.6 | 申请日期 | 2009.04.20 |
申请人 | 京瓷美达株式会社 | 发明人 | 森幸广;桥本光弘 |
分类号 | G03G15/08(2006.01)I | 主分类号 | G03G15/08(2006.01)I |
代理机构 | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人 | 李雪春;武玉琴 |
主权项 | 一种显影装置,其特征在于包括:显影剂储存部,具有储存显影剂的第一显影剂储存室和第二显影剂储存室,所述显影剂在所述第一显影剂储存室和所述第二显影剂储存室之间被输送;搅拌构件,配置在所述显影剂储存部内,搅拌并输送所述显影剂;显影剂承载体,从所述显影剂储存部接受所述显影剂,并承载该显影剂;显影剂限制构件,限制所述显影剂承载体从所述显影剂储存部接受的所述显影剂的量;散热构件,设置在与所述显影剂接触的位置,能够散发所述显影剂保有的热量;以及通风道,使用于冷却的空气流通,其中,所述散热构件为隔板,用于隔开所述第一显影剂储存室和所述第二显影剂储存室,所述隔板包括:第一部分,在所述显影剂储存部内延伸;以及第二部分,与所述第一部分不同,在所述显影剂储存部的外部延伸,所述第二部分设置在所述通风道内,与所述显影剂接触的所述第一部分的表面粗糙度设定成算术平均表面粗糙度Ra1,并且与所述显影剂不接触的所述第二部分的表面粗糙度设定成算术平均表面粗糙度Ra2,所述算术平均表面粗糙度Ra1设定为:在调色剂的体积平均粒径的1/3以下,所述算术平均表面粗糙度Ra2设定为:在所述算术平均表面粗糙度Ra1以上。 | ||
地址 | 日本大阪府 |