| 发明名称 | 具有增大的EUV光透光率的EUV膜结构 | ||
| 摘要 | 依照一个例示实施例，一种用来保护光刻掩膜(lithographicmask)(104)的超紫外线(extreme ultraviolet，EUV)膜结构(pellicle)(106)包含气凝胶(aerogel)膜(122)。所述膜结构复包含用来装设气凝胶膜于光刻掩膜之上的框架(frame)(124)。所述气凝胶膜造成所述膜结构具有增大的EUV光透光率(light transmittance)。 | ||
| 申请公布号 | CN101583906B | 申请公布日期 | 2012.03.21 |
| 申请号 | CN200780041790.6 | 申请日期 | 2007.11.09 |
| 申请人 | 格罗方德半导体公司 | 发明人 | O·R·伍德二世;K·永-韩;T·瓦洛 |
| 分类号 | G03F1/64(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/64(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人 | 程伟;王锦阳 |
| 主权项 | 一种用于保护光刻掩膜的超紫外线(EUV)膜结构(106)，所述膜结构包括：气凝胶膜(122)；框架(124)，用于将所述气凝胶膜装设在所述光刻掩膜之上；其中，所述气凝胶膜使所述膜结构透射EUV光。 | ||
| 地址 | 英属开曼群岛大开曼岛 | ||