发明名称 成膜装置
摘要 本发明提供一种成膜装置。该成膜装置包括:旋转台,包括能分别载置直径为300mm的基板的10个以上的载置区域;第1反应气体供给部,配置在容器内的第1区域,向旋转台供给第1反应气体;第2反应气体供给部,配置在沿旋转台的旋转方向与第1区域分开了的第2区域,向旋转台供给第2反应气体;第1排气口和第2排气口,与第1区域和第2区域相对应;分离区域,配置在第1区域与第2区域之间,包括分离气体供给部和顶面,分离气体供给部喷出用于分离第1反应气体和第2反应气体的分离气体,在顶面与旋转台之间划分供自分离气体供给部供给的分离气体流动的空间,顶面具有能够将该空间的压力维持得比第1区域和第2区域中的压力高的高度。
申请公布号 CN102383110A 申请公布日期 2012.03.21
申请号 CN201110261141.5 申请日期 2011.09.02
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 加藤寿;冈部庸之;本间学;熊谷武司;竹内靖
分类号 C23C16/455(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I 主分类号 C23C16/455(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种成膜装置,该成膜装置在容器内向基板依次供给彼此反应的至少两种反应气体,层叠该两种反应气体的反应生成物的层而形成薄膜,该成膜装置包括:第1旋转台,其能旋转地设于上述容器内,包括能分别载置直径为300mm的基板的10个以上的基板载置区域;第1反应气体供给部,其配置在上述容器内的第1区域内,沿与上述第1旋转台的旋转方向相交的方向延伸,向上述第1旋转台供给第1反应气体;第2反应气体供给部,其配置在沿上述第1旋转台的上述旋转方向与上述第1区域分开的第2区域内,沿与上述旋转方向相交的方向延伸,向上述第1旋转台供给第2反应气体;第1排气口,其设于上述第1区域;第2排气口,其设于上述第2区域;分离区域,其配置在上述第1区域与上述第2区域之间,包括分离气体供给部和顶面,该分离气体供给部喷出用于分离上述第1反应气体与上述第2反应气体的分离气体,在该顶面与上述第1旋转台之间划分出供自该分离气体供给部供给的上述分离气体流动的空间,且该顶面具有能将上述分离气体流动的该空间的压力维持得比上述第1区域中的压力和上述第2区域中的压力高的高度。
地址 日本东京都