发明名称 |
一种薄膜晶体管、阵列基板及装置和一种制备方法 |
摘要 |
本发明公开一种薄膜晶体管、阵列基板及装置和一种制备方法。一种薄膜晶体管,包括导电金属层,所述金属层表面形成有绝缘的氧化层。本发明由于对金属层表面进行氧化处理,形成绝缘的氧化层,该氧化层可以替代氮化硅作为薄膜晶体管的阻挡层,相比制备氮化硅阻挡层需要机台及物料成本,制备氧化层的设备便宜、而且无需增加额外的物料,因此可以节约成本。另外氧化层只存在于金属层表面,对光线的阻隔少,对穿透率要求不高,因此工艺控制相对简单,可以进一步降低成本。 |
申请公布号 |
CN102386237A |
申请公布日期 |
2012.03.21 |
申请号 |
CN201110375847.4 |
申请日期 |
2011.11.23 |
申请人 |
深圳市华星光电技术有限公司 |
发明人 |
寇浩 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;H01L21/316(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 |
代理人 |
邢涛;田夏 |
主权项 |
一种薄膜晶体管,包括导电金属层,其特征在于,所述金属层表面形成有绝缘的氧化层。 |
地址 |
518000 广东省深圳市光明新区光明大道9-2号 |