| 发明名称 | 钼基靶和通过热喷镀制备靶的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及包含至少一种钼基化合物的具有公称厚度的靶，特征在于它具有：层状微结构；低于1000ppm，优选地低于600ppm，甚至更优选地低于450ppm的氧含量；低于该化合物的理论电阻率的五倍、优选地三倍，更优选地二倍的电阻率。 | ||
| 申请公布号 | CN102388159A | 申请公布日期 | 2012.03.21 |
| 申请号 | CN201080016267.X | 申请日期 | 2010.04.12 |
| 申请人 | 圣戈班涂敷技术公司 | 发明人 | D·比耶尔 |
| 分类号 | C23C4/12(2006.01)I | 主分类号 | C23C4/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 黄念;林森 |
| 主权项 | 包含至少一种钼基化合物的具有公称厚度的靶，特征在于它具有：‑层状微结构；‑低于1000ppm，优选地低于600ppm，甚至更优选地低于450ppm的氧含量；‑低于该化合物的理论电阻率的五倍、优选地三倍，更优选地二倍的电阻率。 | ||
| 地址 | 法国阿维尼翁 | ||