发明名称 |
平台设备、光刻设备和定位物体台的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种平台设备、光刻设备和定位物体台的方法。所述平台设备包括:测量系统,配置成测量物体台的依赖位置的信号,所述测量系统包括可安装到物体台上的至少一个传感器和可安装到基本上静止的框架上的传感器目标物体,和安装装置,配置成将传感器目标物体安装到基本上静止的框架上,其中所述测量系统还包括补偿器,所述补偿器配置成补偿传感器目标物体相对于基本上静止的框架的移动和/或变形。补偿器可以包括被动式或主动式减震器和/或反馈位置控制器。在可替代的实施例中,补偿器包括夹持装置,其在可移动物体的高精度的移动期间固定传感器目标物体的位置。 |
申请公布号 |
CN102385255A |
申请公布日期 |
2012.03.21 |
申请号 |
CN201110240453.8 |
申请日期 |
2011.08.19 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇;艾米尔·尤泽夫·梅勒妮·尤森;A·B·杰尤恩克;罗伯特·艾德加·范莱文 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
吴敬莲 |
主权项 |
一种用于相对于基本上静止的框架定位物体台的平台设备,所述平台设备包括:物体台;定位装置,配置成相对于基本上静止的框架定位所述物体台;测量系统,配置成提供所述物体台的第一依赖位置的信号,所述测量系统包括:安装到所述物体台上的第一测量系统部件,和安装到所述基本上静止的框架上的第二测量系统部件,其中在使用中,所述第一和第二测量系统部件彼此协作以提供所述第一依赖位置的信号;控制器,配置成产生用于控制所述定位装置的控制信号;安装装置,配置成将所述第二测量系统部件安装到所述基本上静止的框架上;和位置传感器,配置成提供第二依赖位置的信号,所述第二依赖位置的信号表示所述第二测量系统部件相对于所述基本上静止的框架的位置,其中所述控制器被构造且布置成在其输入终端处接收所述第一和第二依赖位置的信号,其中所述控制信号基于所述第一和第二依赖位置的信号。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |