平坦化晶圆表面的方法

摘要

一种平坦化晶圆表面的方法，包括：提供衬底，所述衬底上形成有隔离有源区的隔离沟槽，隔离沟槽内填充有氧化物，该氧化物高出衬底表面；用粘度为1～3厘泊的有机物涂覆所述衬底和氧化物组成的表面形成有机物涂层，且有机物涂层的表面高出氧化物的表面；用干法刻蚀去除高出衬底表面的氧化物以及有机物涂层，以平坦化晶圆的表面。本发明的方法可以降低隔离沟槽(STI)与衬底之间台阶高度，而且该方法在降低台阶高度时，隔离沟槽与衬底之间不会形成空隙，从而可以提高器件的性能；而且，可以提高产品的产率。

主权项

一种平坦化晶圆表面的方法，其特征在于包括：提供衬底，所述衬底上形成有隔离有源区的隔离沟槽，所述隔离沟槽内填充有氧化物，该氧化物高出衬底表面；用粘度为1～3厘泊的有机物涂覆所述衬底和氧化物组成的表面形成有机物涂层，且有机物涂层的表面高出氧化物的表面；用干法刻蚀去除高出衬底表面的氧化物以及有机物涂层，以平坦化晶圆的表面。