| 摘要 |
<p>Vorrichtung zum Aufspritzen einer Struktur aus leitfähigem Material auf ein Substrat oder Bauteil mit Hilfe eines Plasmaverfahrens umfassend eine Zuführung (31) für das leitfähige Material und für ein Trägergas und umfassend einen Düsenkopf (1)–mit einer äußeren Elektrode (5), die einen zentralen Strömungskanal (6) mit einer endseitigen Austrittsoffnung (19) aufweist,–mit einer inneren Elektrode (7), welche im Strömungskanal (6) positioniert ist und ein Freiende (8) aufweist,–und mit einer Düsenblende (15), wobei weiterhin eine Steuerungseinheit (26) zur Steuerung vorgesehen ist, derart, dass im Betrieb zwischen den beiden Elektroden (5, 7) eine elektrische Spannung anliegt, aufgrund derer das den Strömungskanal (6) in Strömungsrichtung (20) durchströmende Trägergas ionisiert wird, so dass das über die Zuführung (31) in den Strömungskanal (6) eingebrachte leitfähige Material zumindest teilweise verflüssigt wird, dadurch gekennzeichnet, dass im Bereich der Austrittsöffnung (19) eine zusätzliche Zuführung (3) für ein Fokussiergas vorgesehen...</p> |
