THIN-FILM ENCAPSULATION, OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR BODY COMPRISING A THIN-FILM ENCAPSULATION AND METHOD FOR PRODUCING A THIN-FILM ENCAPSULATION
摘要
<p>Es wird eine Dünnschichtverkapselung (11) für einen optoelektronischen Halbleiterkörper mit einer mittels eines PVD-Verfahrens abgeschiedenen PVD-Schicht (6), und einer mittels eines CVD-Verfahrens abgeschiedenen CVD-Schicht (10) angegeben. Weiterhin werden ein optoelektronischer Halbleiterkörper mit einer Dünnschichtverkapselung und ein Verfahren zur Herstellung einer Dünnschichtverkapselung angegeben.</p>
