| 发明名称 | 用于化学机械抛光研磨液组合物的氧化剂 | ||
| 摘要 | 本发明公开了用于制备化学机械抛光(CMP)研磨液组合物的氧化剂及其制备方法。制备用于(CMP)研磨液组合物的氧化剂的方法包括下列步骤：通过将铁盐和5℃或更低的冷水混合来制备铁盐水溶液；以及通过将硅盐与所述铁盐水溶液混合并搅拌以进行硅盐的反应制备纳米合成颗粒，其中所述纳米合成颗粒为含铁的胶态硅。 | ||
| 申请公布号 | CN101142293B | 申请公布日期 | 2012.03.14 |
| 申请号 | CN200680008151.5 | 申请日期 | 2006.03.08 |
| 申请人 | 株式会社东进世美肯 | 发明人 | 朴钟大;金东完 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人 | 王达佐;韩克飞 |
| 主权项 | 用于化学机械抛光研磨液组合物的氧化剂的制备方法，其包括下述步骤：通过将铁盐和5℃或更低的冷水混合来制备铁盐水溶液；以及通过将硅盐与所述铁盐水溶液混合并搅拌以进行所述硅盐的反应来制备纳米合成颗粒，其中所述纳米合成颗粒为含铁的胶态硅，其中所述铁盐在所述铁盐水溶液中的浓度为0.1至20mol％，并且所述硅盐中Si的摩尔量为所述铁盐中Fe的摩尔量的2至10倍。 | ||
| 地址 | 韩国仁川广域市 | ||