| 发明名称 | 使用氟化氩光致抗蚀剂的方法和装置 | ||
| 摘要 | 一种光致抗蚀剂，包括从双环烯衍生物、马来酸酐和/或碳酸亚乙烯酯制备的共聚物，其聚物分子量范围是3000-100000。该光致抗蚀剂可用于使用远紫外光作光源的亚微级平版印刷。除耐刻蚀性和耐热性高以外，该光致抗蚀剂具有良好粘附性并可在TMAH溶液中显影。 | ||
| 申请公布号 | CN1983029B | 申请公布日期 | 2012.03.14 |
| 申请号 | CN200610159600.8 | 申请日期 | 1997.12.31 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 郑载昌;卜喆圭;白基镐 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;樊卫民 |
| 主权项 | 1.一种光致抗蚀剂，包括敏化剂、有机溶剂、和由一种或多种式II的双环烯与式III的马来酸酐和式IV的碳酸亚乙烯酯的至少一种共聚的共聚物：(式II)<img file="FSB00000236396200011.GIF" wi="288" he="331" />其中R代表氢或含有1-10取代或未取代碳原子的直链或支链烷基，且n是1或2，(式III)<img file="FSB00000236396200012.GIF" wi="130" he="255" />(式IV)<img file="FSB00000236396200013.GIF" wi="258" he="149" /> | ||
| 地址 | 韩国京畿道利川市 | ||