发明名称 Plasma processing apparatus
摘要
申请公布号 EP1879213(B1) 申请公布日期 2012.03.14
申请号 EP20070019845 申请日期 2000.05.25
申请人 JP;JP 发明人 JP;JP
分类号 H01J37/32;C23C16/24;C23C16/34;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/511 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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