| 发明名称 |
REMOVAL OF SILICON DEPOSITED ON SEMICONDUCTOR TREATING PARTS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5264879(A) |
申请公布日期 |
1977.05.28 |
| 申请号 |
JP19750140726 |
申请日期 |
1975.11.26 |
| 申请人 |
TOKYO SHIBAURA ELECTRIC CO |
发明人 |
MURAOKA HISASHI;ASANO MASAFUMI;OOHASHI TAIZOU;SHIMAZAKI YUUZOU |
| 分类号 |
H01L21/308;H01L21/22;H01L21/302 |
主分类号 |
H01L21/308 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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