| 发明名称 | 溅镀装置 | ||
| 摘要 | 本发明揭露一种溅镀装置，其包括：处理室，用以对基板执行沉积工艺，并在其一内侧包括靶材；载具，用以在支撑基板的同时进出处理室；以及用于防止膜生长的屏蔽件，用以随载具一起移动并可分离地耦合至载具，并防止在基板的边缘部分上沉积上膜。利用此种配置，可降低由于停止沉积工艺来频繁地更换用于防止膜生长的屏蔽件而造成的各种工艺损耗，从而提高生产率。 | ||
| 申请公布号 | CN102373423A | 申请公布日期 | 2012.03.14 |
| 申请号 | CN201110221415.8 | 申请日期 | 2011.07.25 |
| 申请人 | SFA工程股份有限公司 | 发明人 | 郑洪基;刘云钟;宋殷镐;金正熙;金荣敏 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 施浩 |
| 主权项 | 一种溅镀装置，其特征在于，包括：处理室，用以对基板执行沉积工艺，并在其一内侧包括靶材；载具，用以在支撑所述基板的同时进出所述处理室；以及用于防止膜生长的屏蔽件，用以随所述载具一起移动并可分离地耦合至所述载具，并防止在所述基板的边缘部分上沉积膜。 | ||
| 地址 | 韩国庆尚南道 | ||