发明名称 |
液晶曝光装置 |
摘要 |
在曝光装置中将基板接触支撑于卡盘这一方法,有可能会因附着于基板的尘埃而发生仿照基板保持形状的“里面转印”,或者因基板与卡盘的接触顺序等而在基板上发生皱折等使平坦度受损,发生曝光不良。为此,设置在卡盘上利用空气力使基板进行浮起的部件,通过以非接触方式保持基板,就能够防止有可能因接触状态而发生的平坦度的损害和皱折的发生,将曝光图案在基板上高精度地进行曝光。另外,通过设置恒温(定温)部件,就能够防止使其浮起的基板的温度变化(上升),所以不会有基板的浮起曝光所导致的逊色。 |
申请公布号 |
CN102375346A |
申请公布日期 |
2012.03.14 |
申请号 |
CN201110221578.6 |
申请日期 |
2011.08.04 |
申请人 |
株式会社日立高新技术 |
发明人 |
徳山幹夫;渡部成夫;牧信行;小松伸寿;根本亮二;森顺一;高桥聪 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
许海兰 |
主权项 |
一种在基板上曝光图案的曝光装置,包括:第1搭载部,搭载上述基板,上述第1搭载部具有:第1基板浮起部,使上述基板相对于上述第1搭载部进行浮起。 |
地址 |
日本东京都 |