| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒，氧化剂，抛光速率提升剂，稳定剂和载体。本发明的化学机械抛光液可以通过抛光体系的作用提高金属速率，提高抛光液稳定时间，减少对抛光垫，抛光机台的污染，同时控制金属的材料的局部和整体腐蚀，减少衬底表面污染物，提高产品良率。 | ||
| 申请公布号 | CN102373013A | 申请公布日期 | 2012.03.14 |
| 申请号 | CN201010264137.X | 申请日期 | 2010.08.24 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 徐春 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F3/04(2006.01)I;B24B29/00(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，含有研磨颗粒，氧化剂，抛光速率提升剂，稳定剂和载体。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||