发明名称 一种SOINMOS总剂量辐照建模方法
摘要 本发明公开了一种SOI NMOS总剂量辐照建模方法,属于提参建模技术领域。所述方法包括:获取SOI NMOS辐照前模型参数,并在模型参数中加入与总剂量相关的参数,形成含有未知参数的SOI NMOS总剂量辐照模型;获取SOINMOS总剂量辐照模型中未知参数的数值,形成最终的总剂量辐照模型。通过本发明的建模方法,使得总剂量辐照模型更加全面可靠;另外,本发明还实现了对新加模型参数提取的自动化,使得复杂的提参建模变得更加简单和高效。
申请公布号 CN102375896A 申请公布日期 2012.03.14
申请号 CN201010251985.7 申请日期 2010.08.12
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 卜建辉;毕津顺;韩郑生
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 北京市德权律师事务所 11302 代理人 王建国
主权项 一种SOI NMOS总剂量辐照建模方法,其特征在于,所述方法包括:获取SOI NMOS辐照前模型参数,并在所述模型参数中加入与总剂量相关的参数,形成含有未知参数的SOI NMOS总剂量辐照模型;获取所述SOI NMOS总剂量辐照模型中未知参数的数值,形成最终的总剂量辐照模型。
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