发明名称 | 一种SOINMOS总剂量辐照建模方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种SOI NMOS总剂量辐照建模方法,属于提参建模技术领域。所述方法包括:获取SOI NMOS辐照前模型参数,并在模型参数中加入与总剂量相关的参数,形成含有未知参数的SOI NMOS总剂量辐照模型;获取SOINMOS总剂量辐照模型中未知参数的数值,形成最终的总剂量辐照模型。通过本发明的建模方法,使得总剂量辐照模型更加全面可靠;另外,本发明还实现了对新加模型参数提取的自动化,使得复杂的提参建模变得更加简单和高效。 | ||
申请公布号 | CN102375896A | 申请公布日期 | 2012.03.14 |
申请号 | CN201010251985.7 | 申请日期 | 2010.08.12 |
申请人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明人 | 卜建辉;毕津顺;韩郑生 |
分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人 | 王建国 |
主权项 | 一种SOI NMOS总剂量辐照建模方法,其特征在于,所述方法包括:获取SOI NMOS辐照前模型参数,并在所述模型参数中加入与总剂量相关的参数,形成含有未知参数的SOI NMOS总剂量辐照模型;获取所述SOI NMOS总剂量辐照模型中未知参数的数值,形成最终的总剂量辐照模型。 | ||
地址 | 100028 北京市朝阳区北土城西路3号 |