用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统

摘要

本发明涉及一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为：该设备是在纱线上浆之前设立的一个等离子体处理纱线装置，在该装置中使多组纱线并行穿过上下设有导向轴的多个等离子体放电区，该多个等离子体放电区是采用介质阻挡的放电形式，其中一个电极与壳体连接并接地，另一个电极与电源的高压输出端连接，在放电电极之间可以通过进气管道引入工作气体来改善等离子体的辉光度，该多组等离子体是在一个壳体内，在壳体外设有排气管道。该设备主要是用于上浆前，对纱线的表面前处理，提高纱线的亲水性能，减少上浆过程中PVA用量，从而实现清洁上浆。

主权项

一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为：该设备是在纱线上浆之前设立的一个等离子体处理纱线装置，在该装置中使多组纱线并行穿过上下设有导向轴的多个等离子体放电区，该多个等离子体放电区是采用介质阻挡的放电形式，其中一个电极与壳体连接并接地，另一个电极与电源的高压输出端连接，在放电电极之间可以通过进气管道引入工作气体来改善等离子体的辉光度，该多组等离子体是在一个壳体内，在壳体外设有排气管道。