| 发明名称 | 一种半导体加工设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种半导体加工设备，涉及半导体技术领域，为提高产能而设计。所述半导体加工设备，包括反应腔室，所述反应腔室的腔室壁上设置有观察窗，所述反应腔室内部还设置有保护罩，所述保护罩罩设于所述观察窗上；所述保护罩相对于所述观察窗的一侧设置有开口；所述保护罩内设置有将经所述观察窗入射的光从所述开口射出或将经所述开口入射的光从所述观察窗射出的第一光学装置。本实用新型可用于半导体加工设备中。 | ||
| 申请公布号 | CN202164352U | 申请公布日期 | 2012.03.14 |
| 申请号 | CN201120195588.2 | 申请日期 | 2011.06.10 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 贾士亮 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种半导体加工设备，包括反应腔室，所述反应腔室的腔室壁上设置有观察窗，其特征在于，所述反应腔室内部还设置有保护罩，所述保护罩罩设于所述观察窗上；所述保护罩相对于所述观察窗的一侧设置有开口；所述保护罩内设置有将经所述观察窗入射的光从所述开口射出或将经所述开口入射的光从所述观察窗射出的第一光学装置。 | ||
| 地址 | 100026 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼 | ||