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发明名称 COMPOSITION FOR FORMING BASE FILM FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING MULTILAYER RESIST PATTERN
摘要
申请公布号 EP2219076(A4) 申请公布日期 2012.03.14
申请号 EP20080857409 申请日期 2008.12.01
申请人 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 发明人 OGURO, DAI;HIGASHIHARA, GO;KITA, SEIJI;KITAMURA, MITSUHARU;OGIWARA, MASASHI
分类号 C08G10/04;C07C45/71;C07C49/83;C07C67/14;C07C69/74;C08G8/38 主分类号 C08G10/04
代理机构 代理人
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