发明名称 吸嘴装置
摘要 本创作系一种吸嘴装置,其包括有一中空座体、一吸嘴单元及一中空杆体,该座体上设有一第一开口及一第二开口,且于邻近第二开口处的内侧壁面上设有第一组接部,该吸嘴单元系设于该座体中并具有一吸附端面,该杆体系可拆组地设于该座体,并设有一配合第一组接部的第二组接部,该吸嘴装置可真空吸附晶片等类的待吸物,于吸嘴单元的吸附端面磨损时,可将该杆体自该座体上拆下,进而更换该吸嘴单元,使该吸嘴装置的座体与杆体可重复使用,降低替换成本,并可维持良好的吸附能力且实用性佳。
申请公布号 TWM424598 申请公布日期 2012.03.11
申请号 TW100214963 申请日期 2011.08.12
申请人 关羽翔 高雄市苓雅区民权一路10巷22号4楼;侯鼎丞 高雄市前镇区天伦街132号2楼 发明人 关羽翔;侯鼎丞
分类号 H01L21/67 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 高雄市前镇区天伦街132号2楼