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发明名称
非挥发性记忆体元件及其制造方法
摘要
藉由沿着下电极的上边缘形成决定ReRAM相的电阻层,本发明的非挥发性记忆体元件及其制造方法可以确保在元件设计过程中之起始驱动电压的余裕幅度,并且改善元件的操作特性。
申请公布号
TWI360219
申请公布日期
2012.03.11
申请号
TW096125404
申请日期
2007.07.12
申请人
海力士半导体股份有限公司 南韩
发明人
金台勋
分类号
H01L27/10
主分类号
H01L27/10
代理机构
代理人
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址
南韩
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