| 摘要 |
本发明目的在于提供一种用以在短波长光源曝光后可生成高解析精细电路图案的光敏聚合物；及一包含该聚合物的化学放大光阻组合物。为达到上述目的，本发明提供一种以下式1表示之光敏聚合物，其中R1是一氢原子，R2是一氢原子， 、 或 ，R3是一氯原子、一溴原子、羟基、氰基、第三-丁氧基、CH2NH2、CONH2、CH=NH、CH(OH)NH2或C(OH)=NH基；R4是一氢原子或甲基，每一1-x-y-z、x、y及z是组成该光敏聚合物之每一重复单元的聚合度，x、y及z分别是0.01至0.8，且n是1或2。 |
